台積電先進製程推手 率千人團隊超車英特爾

台積電研發副總經理曹敏專注研發多年,他曾帶領上千人團隊,成功開發 20 奈米,讓台積電晶圓密度超越英特爾,成為台積電先進製程發展的重要推手。
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Photo Credit: Reuters
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台積電研發副總經理曹敏專注研發多年,他曾帶領上千人團隊,成功開發 20 奈米,讓台積電晶圓密度超越英特爾(Intel),之後又協助開發 10 奈米,成為台積電先進製程發展重要推手。

內政部今天公布歸化國籍高級專業人才審查會審查結果,美國籍的曹敏通過審查,歸化成為台灣人,再度受到各界矚目。

他於 2002 年加入台積電,除 20 奈米外,曹敏多年來還協助台積電成功開發 90 奈米、65 奈米、40 奈米及 28 奈米等多項先進製程技術。

曹敏過去最為人津津樂道的是,他曾帶領台積電 1,400 人團隊,進行跨部門合作,歷經 3 年的堅持努力,突破高介電材料/金屬閘技術,並創新採用雙重曝光技術,成功開發 20 奈米製程技術。

這項成果讓台積電的晶圓密度能夠超越全球晶片巨擘英特爾(Intel),技術大幅領先國際,增強台積電的競爭力,確保在晶圓代工領域的領先地位,並於 2013 年獲得經濟部國家產業創新獎的年度創新突破獎肯定。

曹敏於 2006 年至 2008 年帶領開發 40 奈米泛用型製程技術,是台積電首款利用超密度微縮的奈米製程;他在 2009 年首次利用高介電常數金屬閘極技術,成功帶領開發 28 奈米高效能製程。曹敏之後還帶領團隊開發 10 奈米製程技術,是台積電先進製程發展重要的推手。

責任編輯:MindyLi
核稿編輯:Anny

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